한국원자력연구원은 고품질 실리콘 반도체를 생산하는 중성자핵변환도핑(NTD:Neutron Transmutation Doping)기술에 대해 품질경영에 관한 국제표준인 ISO 9001 인증을 획득했다고 지난 7월 9일 밝혔다. 연구용 원자로 하나로(HANARO)에서 생성된 중성자를 이용하는 중성자핵변환도핑(NTD)기술은 부도체인 고순도의 실리콘(Si) 단결정에 중성자를 쏘여 n-형 반도체로 변환시키는 기술이다.
이렇게 만들어진 반도체는 실리콘에 인을 직접 확산시키는 일반적인 화학공정 보다 인의 분포를 균일하게 할 수 있는 장점이 있어 고속전철, 자기부상열차, 전기자동차, 풍력발전소 설비 등 대전력용 반도체 소자 제조에 이용되고 있다. 원자력연구원은 2002년 국내 유일의 연구용 원자로인 하나로를 이용해서 5인치 NTD 반도체를 생산하는 기술을 자체 개발, 상용화한 데 이어 2005년부터는 6인치 반도체도 생산하고 있다.
현재 프랑스, 네델란드, 호주, 벨기에, 독일, 미국, 일본 등의 10여개 연구용 원자로에서 NTD 반도체를 공급하고 있으며 올해 말 상용화를 목표로 8인치 단결정을 이용한 반도체 생산을 시험 중에 있다. 이번 ISO 9001 인증 획득으로 NTD의 기술 수준 및 품질 관리, 운영 능력에서 국제적으로 신뢰도를 얻게 됐다.